2.根据要求1所述一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺,其特征是:所述步骤(c)中调整偏压电源参数对应于上述通入反应气体和控制气体流量中依次四个步...
PVD 是英文“Physical Vapor Deposition”缩写形式,意思是物理气相沉积。现在一般地把真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀都称为物理气相沉积。 较为成熟 PVD 方法...
2.根据要求1所述一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺,其特征是:所述步骤(c)中调整偏压电源参数对应于上述通入反应气体和控制气体流量中依次四个步...
PVD 是英文“Physical Vapor Deposition”缩写形式,意思是物理气相沉积。现在一般地把真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀都称为物理气相沉积。 较为成熟 PVD 方法...
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